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ANJ-3晶圓清洗劑已成功使用在藍寶石晶圓清洗上
 

ANJ-3晶圓清洗劑已成功使用在藍寶石晶圓清洗上,經由AOI檢測後已無微小顆粒殘留,使後續黃光蝕刻製程之良率提升 !

經大量晶片實驗證實,ANJ-3加入超音波槽後,搭配槽內高溫環境,藥液濃度控制在約5%,可成功去除約1 um以上之微粒,達成客戶規
範。

ANJ-3是您最終清洗的最佳選擇 !

 ANJ-3 Optical Product Cleaner has been successfully used in the sapphire wafer cleaning. After the AOI inspection has no trace of small particles residue,

So that improved photo and etch process yield.

By the large number of wafer experiments confirmed, ANJ-3 into the ultrasonic tank with the high temperature and concentration control in about 5~10%, can be successfully removed 1 um above particles, to achieve customer specifications.

ANJ-3 is the best choice for your final cleaning!

 

 

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